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Run Card for cmos150 |
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Step 8.0 |
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Process: P-Well Implant |
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Date |
Operator |
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Note: This step is processed outside in the Implant Center. |
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29/08/01 |
vorosl |
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Specifications: |
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B11 Nd = 3 x 1012 /cm2 |
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Energy = 80 KeV |
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Include NCH |
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