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Run Card for cmos150 |
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Step 16.0 |
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Process:N-Well
Field Ion Implant
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Date |
Operator |
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Note:This
step is processed in the Implant Center.
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11/09/01
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jcpeng
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Specifications:
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PhosphorusNd
= 3 x 1012/cm2
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Energy = 40 KeV
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Include PCH
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