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Run Card for cmos150 |
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Step 14.0 |
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Process: P-Well Field Ion Implant |
Date |
Operator |
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Note: This step is processed in the Implant Center. |
11/02/01 |
vorosl, jcpeng |
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Specifications: |
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B11 Na = 1.5 x 1013 /cm2 |
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Energy = 70 KeV |
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Include PCH |
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