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Run Card for cmos150 |
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Step 11.0 |
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Process: Active Area Photo - Mask Active (chrome-cf) |
Date |
Operator |
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Standard Lithography Process |
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1. |
HMDS |
09/28/01 |
vorosl |
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Program:1 on svgcoat6 |
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2. |
Spin and Soft Bake |
09/28/01 |
vorosl |
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Two different groups: |
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#12-#15 (4000 A PR, Shipley-210-0.6, program 1) |
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#1-#10 (8000 A PR, Shipley UV-210-0.6, program 7) |
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Program #7 for SVGCOAT6:
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3. |
Expose by ASML |
09/28/01 |
vorosl, |
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Job name: baseline, active mask (4th quarter) |
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Energy matrix was accomplished to find the best resolution. |
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Energy= 18 mJ/cm2 for all except #9-#10 (19 mJ/cm2) |
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Note: Aperture was in. |
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#1, #4, #8, #12 were redone. |
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4. |
Post exposure Bake (program:1) svgdev6 |
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5. |
Develop (program:1) svgdev6 |
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6. |
Inspect |
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vorosl |
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7. |
Descum |
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This step was skipped, since there is no 6” tool for it yet. |
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8. |
UV Bake (program: J) |
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vorosl |